一种蚀刻机的控制方法、装置、蚀刻设备和存储介质与流程

本发明涉及软件控制，特别是一种蚀刻机的控制方法、装置、蚀刻设备和存储介质。

背景技术：

1、刻蚀机是一种常用的半导体加工设备，主要用于制作微电子器件中的纳米级结构，它的原理是通过控制离子加速并聚焦，然后瞄准待刻蚀的样品表面使其与样品表面相撞，发生多种相互作用如散射、表面反射、电子激发和离子抑制，达到刻画半导体线路的目的。

2、刻蚀机各部件工作时处于真空状态下，彼此有隔离阀门又有物料传递，还有非常复杂的安全互锁关系，因此对控制软件的实时性、可靠性提出了很高的要求。

技术实现思路

1、本发明实施例要解决的技术问题在于，提供一种蚀刻机的控制方法、装置、蚀刻设备和存储介质，以解决现有技术中控制软件的实时性、可靠性不高的问题。

2、本发明公开了一种蚀刻机的控制方法，所述蚀刻机包括用多个待控制机构；所述蚀刻机的控制方法包括：

3、获取用户输入的配方数据和操作数据，根据所述配方数据和所述操作数据建立周期性多线程任务；

4、根据所述周期性多线程任务分别针对多个所述待控制机构创建待控制对象和控制线程，将每个所述待控制对象移动到对应的控制线程中；

5、通过信号和槽机制建立各个待控制对象之间的通信，从而在特定事件发生时执行相应的操作；

6、启动所述周期性多线程任务，获取加工过程中的实时反馈数据，将所述实时反馈数据存入预设数据库中，显示所述实时反馈数据和所述预设数据库中的历史反馈数据。

7、可选地，所述通过信号和槽机制建立各个待控制对象之间的通信的步骤，包括：

8、通过connect函数建立多个信号和槽之间的连接，以实现每个所述控制线程的分配函数入口。

9、可选地，所述通过信号和槽机制建立各个待控制对象之间的通信的步骤，包括：

10、当一个所述待控制对象发出预设信号时，调用另一个所述待控制对象的槽函数。

11、可选地，所述将所述实时反馈数据存入预设数据库中的步骤之前，包括：

12、判断是否存在与预设数据库的连接，若是，则直接使用所述连接；若否，则创建与所述预设数据库的连接，并设置所述预设数据库的文件路径，打开所述文件路径对应的数据库文件。

13、可选地，所述待控制机构采用plc系统，所述方法还包括；

14、通过第一函数打开自动化设备规范通讯端口，并获取本地地址信息；

15、将网络地址设置为特定的数值，以便与所述待控制机构建立通讯连接；

16、通过自动化设备规范协议的第二函数，根据变量的名称获取并存储所述变量在plc中的句柄；

17、使用第二函数，根据所述句柄从plc中读取并存储所述变量的值。

18、可选地，所述配方数据包括：第一工艺数据、第二工艺数据和第三工艺数据；

19、所述第一工艺数据表示每个待蚀刻元件的一个蚀刻工序步骤，包含所述蚀刻工序步骤中的多个设备控制参数；

20、所述第二工艺数据由多个第一工艺数据组成，表示一个待蚀刻元件的蚀刻过程，包括多个所述蚀刻工序步骤的顺序；

21、所述第三工艺数据包括所有的第二工艺数据，表示一个料盒中所有的待蚀刻元件的蚀刻过程的集合。

22、可选地，所述获取用户输入的配方数据的步骤，包括：

23、对所述第一工艺数据、第二工艺数据和所述第三工艺数据按照正向或反向顺序进行编辑。

24、本发明还公开了一种蚀刻机的控制装置，所述蚀刻机包括用多个待控制机构；所述蚀刻机的控制装置包括：

25、获取模块，用于获取用户输入的配方数据和操作数据，根据所述配方数据和所述操作数据建立周期性多线程任务；

26、线程模块，用于根据所述周期性多线程任务分别针对多个所述待控制机构创建待控制对象和控制线程，将每个所述待控制对象移动到对应的控制线程中；

27、通信模块，用于通过信号和槽机制建立各个待控制对象之间的通信，从而在特定事件发生时执行相应的操作；

28、启动模块，用于启动所述周期性多线程任务，获取加工过程中的实时反馈数据，将所述实时反馈数据存入预设数据库中，显示所述实时反馈数据和所述预设数据库中的历史反馈数据。

29、本发明还公开了一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时，使得所述处理器执行如上所述方法的步骤。

30、本发明还公开了一种蚀刻设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时，使得所述处理器执行如上所述方法的步骤。

31、与现有技术相比，本发明实施例提供的蚀刻机的控制方法的有益效果在于：

32、根据周期性多线程任务分别针对多个待控制机构创建待控制对象和控制线程，将每个待控制对象移动到对应的控制线程中，可以实现多个待控制机构之间的协同操作，通过信号和槽机制实现特定事件触发时的相应操作，从而提高系统的灵活性和可扩展性，实现更高效的控制和协作，展示实时反馈数据和历史反馈数据,可以帮助用户监控蚀刻加工过程中的情况，并参照历史数据进行分析和比较。

1.一种蚀刻机的控制方法，其特征在于，所述蚀刻机包括用多个待控制机构；所述蚀刻机的控制方法包括：

2.根据权利要求1所述的蚀刻机的控制方法，其特征在于，所述通过信号和槽机制建立各个待控制对象之间的通信的步骤，包括：

3.根据权利要求1或2所述的蚀刻机的控制方法，其特征在于，所述通过信号和槽机制建立各个待控制对象之间的通信的步骤，包括：

4.根据权利要求1所述的蚀刻机的控制方法，其特征在于，所述将所述实时反馈数据存入预设数据库中的步骤之前，包括：

5.根据权利要求1所述的蚀刻机的控制方法，其特征在于，所述待控制机构采用plc系统，所述方法还包括；

6.根据权利要求1所述的蚀刻机的控制方法，其特征在于，所述配方数据包括：第一工艺数据、第二工艺数据和第三工艺数据；

7.根据权利要求6所述的蚀刻机的控制方法，其特征在于，所述获取用户输入的配方数据的步骤，包括：

8.一种蚀刻机的控制装置，其特征在于，所述蚀刻机包括用多个待控制机构；所述蚀刻机的控制装置包括：

9.一种计算机可读存储介质，其特征在于，存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时，使得所述处理器执行如权利要求1至7中任一项所述方法的步骤。

10.一种蚀刻设备，其特征在于，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时，使得所述处理器执行如权利要求1至7中任一项所述方法的步骤。