基于出液装置的处理剂监控方法及装置与流程

1.一种基于出液装置的处理剂监控方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的基于出液装置的处理剂监控方法，其特征在于，所述处理剂添加结果包括所述处理剂添加操作对应的一种或多种属性因子，所述属性因子包括处理剂添加操作所添加的第一处理剂的处理剂类型、所述第一处理剂的处理剂特征、所述第一处理剂的处理剂添加量、所述第一处理剂的处理剂添加时间中的一个或多个；

3.根据权利要求2所述的基于出液装置的处理剂监控方法，其特征在于，所述方法还包括：

4.根据权利要求2或3所述的基于出液装置的处理剂监控方法，其特征在于，所述方法还包括：

5.根据权利要求4所述的基于出液装置的处理剂监控方法，其特征在于，在所述将所述第一预设出液控制参数确定为所述某一处理剂存储装置相匹配的预设出液控制参数之前，所述方法还包括：

6.根据权利要求4所述的基于出液装置的处理剂监控方法，其特征在于，在所述使用所述第一预设出液装置更换所述某一处理剂存储装置对应的第二预设出液装置，得到更换后的所述第二预设出液装置之前，所述方法还包括：

7.根据权利要求1、2、3、5、6中任一项所述的基于出液装置的处理剂监控方法，其特征在于，所述方法还包括：

8.一种基于出液装置的处理剂监控装置，其特征在于，所述装置包括：

9.一种基于出液装置的处理剂监控装置，其特征在于，所述装置包括：

10.一种计算机存储介质，其特征在于，所述计算机存储介质存储有计算机指令，所述计算机指令被调用时，用于执行如权利要求1-7任一项所述的基于出液装置的处理剂监控方法。