首页  专利技术  电子电路装置的制造及其应用技术

存储器磨损均衡方法、装置、设备及介质与流程

199次浏览

技术特征:

1.一种存储器磨损均衡方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的存储器磨损均衡方法,其特征在于,所述基于存储器的最大闪存可擦写次数情况置位所述第一队列状态或第二队列状态,包括:

3.根据权利要求2所述的存储器磨损均衡方法,其特征在于,所述基于所述第一可擦写差值、所述第二可擦写差值、所述第三可容忍差值和所述预设阈值的大小比较结果置位所述第一队列状态或第二队列状态,包括:

4.根据权利要求1所述的存储器磨损均衡方法,其特征在于,所述基于存储器状态根据所述第一队列状态的置位情况,或第二队列状态的置位情况,置位所述第一活动状态,或所述第二活动状态,并清除对应的所述第一队列状态和所述第二队列状态,包括:

5.根据权利要求1所述的存储器磨损均衡方法,其特征在于,所述方法还包括:

6.根据权利要求1所述的存储器磨损均衡方法,其特征在于,所述方法还包括:

7.根据权利要求1所述的存储器磨损均衡方法,其特征在于,所述正常执行所述高优先级平衡垃圾收集,包括:

8.一种存储器磨损均衡装置,其特征在于,所述装置包括:

9.一种计算机设备,其特征在于,包括存储器和处理器,所述存储器存储有计算机程序,所述计算机程序被所述处理器执行时实现如权利要求1至7任一项所述的存储器磨损均衡方法的步骤。

10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,其存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至7任一项所述的存储器磨损均衡方法的步骤。


技术总结
本发明提供一种存储器磨损均衡方法、装置、设备及介质,涉及存储器技术领域。该方法包括:定义高优先级平衡垃圾收集对应的第一队列状态,以及低优先级平衡垃圾收集对应的第二队列状态;基于存储器的闪存可擦写次数情况置位第一队列状态或第二队列状态;定义高优先级平衡垃圾收集对应的第一活动状态,以及低优先级平衡垃圾收集对应的第二活动状态;基于存储器状态根据第一队列状态的置位情况,或第二队列状态的置位情况,置位第一活动状态,或第二活动状态,并清除对应的第一队列状态和第二队列状态。这样,可避免影响存储器的正常性能,以及防止过度磨损均衡或无效磨损均衡。

技术研发人员:孙成思,何瀚,王灿,袁太勇
受保护的技术使用者:深圳佰维存储科技股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/11/14
文档序号 : 【 40001561 】

技术研发人员:孙成思,何瀚,王灿,袁太勇
技术所有人:深圳佰维存储科技股份有限公司

备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
声 明此信息收集于网络,如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们,我们会在第一时间删除
孙成思何瀚王灿袁太勇深圳佰维存储科技股份有限公司
一种角度可调高温粉尘环境下的加料装置的制作方法 基于荧光指纹的水体溯源方法、装置、设备及存储介质与流程
相关内容