光学设备、用于测量光学元件的光学表面的实际倾斜的方法和光刻系统与流程

1.一种光学设备(1)，特别是用于光刻系统(100、200)，具有包括至少一个光学表面(3)的至少一个光学元件(2)，并且具有用于倾斜所述光学元件(2)的所述光学表面(3)的一个或多个致动器(4)，并且具有用于感测所述光学表面(3)从静止位置的倾斜的测量装置(5)，

2.根据权利要求1所述的光学设备(1)，

3.根据权利要求1或2所述的光学设备(1)，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学设备(1)，

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学设备(1)，

6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学设备(1)，

7.根据权利要求5或6所述的光学设备(1)，

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学设备(1)，

9.根据权利要求8所述的光学设备(1)，

10.根据权利要求1至9中任一项所述的光学设备(1)，

11.根据权利要求8、9或10所述的光学设备(1)，

12.根据权利要求7至11中任一项所述的光学设备(1)，

13.根据权利要求7至12中任一项所述的光学设备(1)，

14.根据权利要求8至13中任一项所述的光学设备(1)，

15.根据权利要求1至14中任一项所述的光学设备(1)，

16.根据权利要求1至15中任一项所述的光学设备(1)，

17.根据权利要求1至16中任一项所述的光学设备(1)，

18.根据权利要求15至17中任一项所述的光学设备(1)，

19.根据权利要求1至18中任一项所述的光学设备(1)，

20.根据权利要求1至19中任一项所述的光学设备(1)，

21.根据权利要求20所述的光学设备(1)，

22.根据权利要求1至21中任一项所述的光学设备(1)，

23.根据权利要求1至22中任一项所述的光学设备(1)，

24.一种用于测量光学元件(2)、特别是光刻系统(100、200)的光学元件的光学表面(3)的实际倾斜的方法，其中所述光学表面(3)的实际倾斜由沿着测量部分传播的至少一个测量光束(8)确定，其中一个或多个致动器(4)被布置成影响所述光学表面(3)的倾斜，

25.根据权利要求24所述的方法，

26.根据权利要求24或25所述的方法，

27.根据权利要求24至26中任一项所述的方法，

28.根据权利要求24至27中任一项所述的方法，

29.根据权利要求26至28中任一项所述的方法，

30.根据权利要求29所述的方法，

31.根据权利要求24至30中任一项所述的方法，

32.根据权利要求31所述的方法，

33.根据权利要求24至32中任一项所述的方法，

34.根据权利要求24至33中任一项所述的方法，

35.一种光刻系统，特别是用于半导体光刻的投射曝光设备(100、200)，其具有照明系统(101、201)，所述照明系统(101、201)具有辐射源(102)和光学单元(103、109、206)，所述光学单元(103、109、206)包括至少一个光学元件(116、118、119、120、121、122、mi、207)，其特征在于