光学设备、用于测量光学元件的光学表面的实际倾斜的方法和光刻系统与流程
技术特征:
1.一种光学设备(1),特别是用于光刻系统(100、200),具有包括至少一个光学表面(3)的至少一个光学元件(2),并且具有用于倾斜所述光学元件(2)的所述光学表面(3)的一个或多个致动器(4),并且具有用于感测所述光学表面(3)从静止位置的倾斜的测量装置(5),
2.根据权利要求1所述的光学设备(1),
3.根据权利要求1或2所述的光学设备(1),
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学设备(1),
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学设备(1),
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学设备(1),
7.根据权利要求5或6所述的光学设备(1),
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学设备(1),
9.根据权利要求8所述的光学设备(1),
10.根据权利要求1至9中任一项所述的光学设备(1),
11.根据权利要求8、9或10所述的光学设备(1),
12.根据权利要求7至11中任一项所述的光学设备(1),
13.根据权利要求7至12中任一项所述的光学设备(1),
14.根据权利要求8至13中任一项所述的光学设备(1),
15.根据权利要求1至14中任一项所述的光学设备(1),
16.根据权利要求1至15中任一项所述的光学设备(1),
17.根据权利要求1至16中任一项所述的光学设备(1),
18.根据权利要求15至17中任一项所述的光学设备(1),
19.根据权利要求1至18中任一项所述的光学设备(1),
20.根据权利要求1至19中任一项所述的光学设备(1),
21.根据权利要求20所述的光学设备(1),
22.根据权利要求1至21中任一项所述的光学设备(1),
23.根据权利要求1至22中任一项所述的光学设备(1),
24.一种用于测量光学元件(2)、特别是光刻系统(100、200)的光学元件的光学表面(3)的实际倾斜的方法,其中所述光学表面(3)的实际倾斜由沿着测量部分传播的至少一个测量光束(8)确定,其中一个或多个致动器(4)被布置成影响所述光学表面(3)的倾斜,
25.根据权利要求24所述的方法,
26.根据权利要求24或25所述的方法,
27.根据权利要求24至26中任一项所述的方法,
28.根据权利要求24至27中任一项所述的方法,
29.根据权利要求26至28中任一项所述的方法,
30.根据权利要求29所述的方法,
31.根据权利要求24至30中任一项所述的方法,
32.根据权利要求31所述的方法,
33.根据权利要求24至32中任一项所述的方法,
34.根据权利要求24至33中任一项所述的方法,
35.一种光刻系统,特别是用于半导体光刻的投射曝光设备(100、200),其具有照明系统(101、201),所述照明系统(101、201)具有辐射源(102)和光学单元(103、109、206),所述光学单元(103、109、206)包括至少一个光学元件(116、118、119、120、121、122、mi、207),其特征在于
技术总结
本发明涉及一种光学设备(1),特别是用于光刻系统(100、200),包括:具有至少一个光学表面(3)的至少一个光学元件(2);具有用于倾斜光学元件(2)的光学表面(3)的一个或多个致动器(4);以及具有用于感测光学表面(3)从静止位置的倾斜的测量装置(5)。根据本发明,测量装置(5)包括形成闭合测量部分(7)的至少一个波导(6),其中波导(6)被设计为输入耦合并传播测量光束(8)的一种或多种模式,并且其中波导(6)被布置为使得光学表面(3)的倾斜影响传播通过波导(6)的测量光束(8),其中测量装置(5)被设计为感测由光学表面(3)的倾斜引起的对测量光束(8)的影响。
技术研发人员:H·兹维克,T·哈特,M·希伦布兰德,S·里克特,R·阿梅林,F·哈克
受保护的技术使用者:卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日:
技术公布日:2024/11/14
技术研发人员:H·兹维克,T·哈特,M·希伦布兰德,S·里克特,R·阿梅林,F·哈克
技术所有人:卡尔蔡司SMT有限责任公司
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