超表面装置、超表面状态确定方法、装置、设备和介质与流程

1.一种超表面装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的超表面装置，其特征在于，所述第一状态为断开状态或导通状态；

3.根据权利要求1所述的超表面装置，其特征在于，所述状态控制节点为微带线。

4.根据权利要求1所述的超表面装置，其特征在于，所述电磁单元通过拼插组合的方式形成所述超表面。

5.一种超表面状态确定方法，应用于如权利要求1至4中任一项所述的超表面装置，其特征在于，所述方法包括：

6.根据权利要求5所述的超表面状态确定方法，其特征在于，所述根据基站的位置确定超表面的目标入射角度，以及，根据所述基站对应的目标覆盖区域的位置和超表面的布设位置，确定所述超表面的目标出射角度之前，所述方法还包括：

7.根据权利要求5所述的超表面状态确定方法，其特征在于，所述根据所述目标入射角度和所述目标出射角度，确定所述超表面上每一电磁单元的相位响应，包括：

8.根据权利要求5所述的超表面状态确定方法，其特征在于，所述根据所述电磁单元的相位响应，确定所述电磁单元对应的状态控制节点的状态，包括：

9.根据权利要求5所述的超表面状态确定方法，其特征在于，所述根据每一所述电磁单元的相位响应，确定每一所述电磁单元对应的状态控制节点的状态，包括：

10.根据权利要求9所述的超表面状态确定方法，其特征在于，所述根据每一所述测试电磁单元的相位响应，确定所述电磁单元对应的状态控制节点的状态，包括：

11.一种超表面状态确定装置，其特征在于，包括：

12.一种超表面状态确定设备，其特征在于，包括：处理器、存储器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的程序，所述程序被所述处理器执行时实现如权利要求5至10中任一项所述的超表面状态确定方法。

13.一种可读存储介质，其特征在于，所述可读存储介质上存储有程序，所述程序被处理器执行时实现如权利要求5至10中任一项所述的超表面状态确定方法中的步骤。